セライト、半導体汚染の自動測定装備を開発

セライト、半導体汚染の自動測定装備を開発金属イオン汚染度を測定…生産歩留まりの向上に期待 半導体の工程過程中に発生する化学的汚染の有無を自動で測定する装備が初めて開発された。 セライト（代表 洪性均〈ホン・ソンギュン〉）は2年余りの研究の末、半導体製造工程で現れる化学物質の汚染程度を自動で測定するケミカル汚染自動測定装備（モデル名「TIMS-2000」・写真）を、このほど国内業界では初めて開発した。 メモリーと非メモリー半導体の双方に適用できる同装備は、半導体の中核製造過程のうち汚染物質を洗浄する（WET）工程で、金属イオン汚染の程度を測定する役割を果たす。 工程とは、半導体を洗浄する際に各種の過酸化水素や超純水を利用してウエハーの表面を洗浄するもので、汚染自動測定装備はこの洗浄過程の中間で使用される製品である。同装備を使用すれば金属汚染物質を20PPTまで検出しデータで知らせるため、半導体の生産歩留まりを最大化できるという長所がある。 これまで半導体ウエハー工程で金属イオンによる汚染で問題が発生した場合、すでに回復できない段階まで工程が進んでおり、それまで生産されたウエハーをすべて廃棄するなど莫大な損害を甘受しなければならなかった。 しかしTIMS-2000は汚染の有無を工程中にリアルタイムで自動測定・分析し、汚染物質が発生すると直ちに供給ラインや工程の進行を中断させ、生産損失を事前に根本から封じることができる。 また現在実施されているメモリーおよび非メモリー半導体などすべてのウエハー工程で使用でき、特に2002年から商用化される予定の300MMウエハー工程にも装備の交換や修理なしに適用できる。 会社側は国内の半導体企業を対象に性能テストを終え、ある大企業に2台を納品した状態で、来月にはさらに2台を供給する予定である。また日本の半導体装備メーカーへの供給も推進中である。 セライトは2月に半導体の縁部分の異常の有無を検査できるウエハーエッジ検査装備を開発した半導体検査装備の専門企業で、この汚染測定装備については国内はもちろん、米国と欧州、台湾などに特許を出願中である。 会社側は年内に同装備だけで70億ウォンの売上を上げ、2002年からは年間200億ウォン以上の売上を上げると期待している。（0331）217-0110 ソン・ヨンギュ記者SKONG@SED.CO.KR 入力時間 2000/06/30 19:05 ◀ 前の画面